三氟化氮 (Nitrogen Trifluoride)

三氟化氮（NF₃）是一种无色、无味的气体，在常温下为气态。它具有强氧化性和腐蚀性，是重要的工业气体之一。

三氟化氮在半导体制造中广泛用作等离子体蚀刻气体和清洗气体，能够精确控制蚀刻深度和形状。在平板显示器制造中，它用于清洗工艺。在太阳能电池制造中，三氟化氮用作清洗气体。由于其温室效应潜势较高，在使用时需要严格控制排放和回收。